蒸发磁控两用镀膜机
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蒸发磁控两用镀膜机
蒸发磁控两用镀膜机

蒸发磁控两用镀膜机

蒸发磁控两用镀膜机

PVD真空镀膜设备

磁控溅射镀膜机

高真空蒸发镀膜机

PVD蒸发镀膜机

蒸发电镀设备

塑胶金属化电镀设备

铝膜PVD电镀设备

银膜PVD电镀设备

铬膜真空电镀设备

低温真空电镀设备

PVD真空镀膜设备

PVD真空电镀设备

PVD真空镀膜机

蒸发磁控两用镀膜机 详情介绍"DINGYI" Details Of Product Introduction

蒸发/磁控两用镀膜设备:


蒸发/磁控两用镀膜设备:
此设备利用磁控溅射阴较辉光放电将原子(靶材)离化沉积在基材上(物理气相沉积PVD)和真空中利用电阻加热法将金属丝熔融或金属分子汽化,对基材,手机壳等塑料表面进行金属化,利用特定薄膜涂层实现产品不导电和电磁屏蔽的作用,以满足现行手机的高等电子产品制造行业标准;

蒸发/磁控两用镀膜设备:
集中了等离子体处理,高等阴较磁控溅射,,电阻蒸发镀膜装置,大装载量转架和自动化控制技术,工作可靠,重复性一致性良好,沉积速率高快,附着力好,膜层品质细腻等,镀制的薄膜致密硬度高,磨擦系数低,可保持原有工件表面光洁,具有韧性好,不易破裂脱落。设备实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进行涂层,具有生产成本低,产品合格率高,绿色环保等特点,主要适用于电脑,手机,高等工业(家用)电子电器,航空等领域,,可镀制复合金属膜,合金膜,透明(半透明)膜,不导电膜,电磁屏蔽膜及特殊膜层等。


 

设备参数:

 

型号

工作室尺寸直径X长(mm)

可镀工件最大尺寸直径(mm)

极限压力(Pa)

空载抽气时间
(分钟)

装机总功率(KW)

蒸发功率(KW)

真空机组配置

DY-1200

Φ1200X1400

Φ330X1200X6

≤3X10-3

≤6

53

20

KT-600;ZJ-300;2X-8;2X-70

DY-1400

Φ1400X2000

Φ400X1700X6

≤3X10-3

≤6

65

20

KT-800;ZJ-600;2X-15;H-150

DY-1600

Φ1600X2000

Φ470X1700X6

≤3X10-3

≤6

75

30

KT-1000;ZJ-600;2X-30;H-150

DY-1700

Φ1700X2000

Φ500X1700X6

≤3X10-3

≤6

77

30

KT-1000;ZJ-1200;2X-30;H-150

DY-1800

Φ1800X2000

Φ530X1700X6

≤3X10-3

≤6

96.5

30

KT-1000;ZJ-1200;2X-30;H-150

DY-2000

Φ2000X2000

Φ590X1700X6

≤3X10-3

≤6

96.5

30

KT-1000,ZJ-1200;2X-30;H-150X2

DY-1000

Φ1000X2000

Φ310X1700X6

≤3X10-3

≤6

53

30

KT-800;ZJ--600.2X15;H-150

DY-1500

Φ1500X2000

Φ480X1700X6

≤3X10-3

≤6

65

30

KT-800;ZJ-600;2X-15;H-150

DY-1600

Φ1600X2000

Φ520X1700X6

≤3X10-3

≤6

75

30

KT-800;ZJ-1200;2X-30;H-150

DY-1800

Φ1800X2000

Φ580X1700X6

≤3X10-3

≤6

96.5

30

KT-1000;ZJ-1200;2X-300;H-150

DY-2000

Φ2000X2000

Φ600X1700X6

≤3X10-3

≤6

96.5

30

KT-800X2;ZJ-1200;2X-300;H-150X2

 


 样品示例:


 

鼎益科技
可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。


真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。



鼎益科技国际领先水平的镀膜应用解决方案:提供设备、材料、加工、技术、项目配套等系统服务


 

鼎益真空镀膜设备有:蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机 、磁控蒸发两用镀膜机 、多弧离子镀膜机 中频离子镀膜机 、AF镀膜机、超硬质涂层镀膜机、卷绕式镀膜机、PVD镀膜线、镀膜项目配套总成。



PVD工艺技术采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜。



鼎益科技根据产品的特性匹配最佳的镀膜工艺方案。


鼎益真空镀膜机祖设备在行业优势特点所在:专业、诚信、可靠。

 

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